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화웨이 최고 과학자 "엔비디아도 칩 제조 물리적 한계 봉착할 것"

화웨이 최고 반도체 과학자 랴오 헝 엔비디아 미세 공정
화웨이의 최고 반도체 과학자가 엔비디아를 비롯한 글로벌 반도체 기업들이 추진하는 초미세 공정과 고대역폭메모리(HBM) 중심의 성능 향상 전략이 머지않아 물리적 한

화웨이의 최고 반도체 과학자가 글로벌 반도체 생태계에 큰 경고를 던졌습니다. 엔비디아를 비롯한 주요 반도체 기업들이 추진 중인 초미세 공정과 고대역폭 메모리(HBM) 중심의 성능 향상 전략이 근본적인 물리적 한계에 직면할 것이라는 주장입니다. 이러한 발언은 기술 자립을 추구하는 화웨이가 어떻게 새로운 방향으로 나아가고 있는지를 보여주는 중요한 신호로 여겨집니다.

물리적 한계와 새로운 패러다임의 필요성

최근 공개된 인터뷰에서 화웨이의 최고 반도체 과학자인 랴오 헝 박사는 반도체 업계의 미세화 중심 발전 방식이 곧 한계에 도달할 것이라고 경고했습니다. 기존의 반도체 설계 패러다임은 수십 년에 걸쳐 발전해 왔지만, 이제는 새로운 접근 방식이 필요하다는 것입니다. 그는 현재 엔비디아가 수십억 개의 트랜지스터를 집적한 대형 연산 칩과 대용량 HBM을 결합하는 전략을 취하고 있지만, 이러한 방식은 결국 물리적 한계를 피할 수 없다고 강조했습니다.

이러한 경고는 반도체 산업에서 자주 언급되는 주제입니다. 실제로 TSMC, 인텔, 삼성전자와 같은 기업들이 미세화 경쟁을 이어가는 가운데 기술적 장벽에 직면할 것이라는 전망이 나오고 있습니다. 즉, 단순히 트랜지스터의 크기를 줄이는 것만으로는 더 이상 성능 향상을 이끌어낼 수 없다는 것입니다.

화웨이의 새로운 기술 접근법

미국의 제재로 인해 화웨이는 최첨단 반도체 제조 기술에 대한 접근이 제한되면서 독자적인 기술 개발에 나섰습니다. 그 결과로 탄생한 ‘타우 스케일링 법칙(Tau Scaling Law)’은 기존의 미세화 대신 시스템 내 데이터 전송 속도를 향상시키는 데 중점을 두고 있습니다. 이 법칙은 전반적인 시스템 성능을 극대화하는 데 초점을 맞추고 있으며, 화웨이는 이를 적용한 첫 번째 스마트폰용 칩을 곧 공개할 예정입니다.

랴오 박사는 이 접근 방식이 칩 자체의 집적도 향상 효과가 줄어드는 현 시대에 적합한 해결책이 될 것이라며, 시스템 차원의 최적화를 통해 새로운 성장 동력을 찾아야 한다고 주장했습니다. 이는 단순히 반도체 제조사의 기술력이 아니라, 전체 시스템을 아우르는 종합적인 혁신이 필요하다는 것을 의미합니다.

AI 혁신과 반도체 자립의 필요성

랴오 박사는 현재 미·중 기술 경쟁이 심화되면서 글로벌 반도체 공급망이 두 개의 생태계로 나뉘고 있다고 진단했습니다. 그는 양측의 충돌 없이도 생존을 위해 각각 독립적인 제조 및 공급망을 구축해야 한다고 강조하며, 중국의 반도체 자립 필요성을 역설했습니다. 특히 AI 산업에서는 반도체 기업과 AI 모델 개발사가 긴밀히 협력해야 한다고 언급하며, 이러한 협력이 미국의 제재를 극복하는 데 중요한 역할을 할 것이라고 주장했습니다.

마지막으로, 화웨이도 AI 칩과 AI 모델을 동시에 최적화하는 ‘공동 설계(Co-design)’ 방식을 채택하고 있다고 밝혔습니다. 이를 통해 더 높은 설계 복잡성을 목표로 하여 컴퓨팅 자원 소비를 줄이는 방향으로 경쟁력을 확보하겠다는 의지를 내비쳤습니다.

결론적으로, 화웨이의 새로운 기술 접근은 급변하는 반도체 환경 속에서 중요한 의미를 갖습니다. 물리적 한계에 직면하고 있는 반도체 산업은 이제 실질적인 혁신을 요구하고 있으며, 이러한 변화가 향후 기술 자립 및 경쟁력 강화에 어떻게 기여할지 주목할 필요가 있습니다.