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화웨이 ‘타우 법칙’ 칩 과열 우려 일축...“트랜지스터 밀도 55% 높이고 전력 낮췄다”

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화웨이가 자사의 '타우(τ) 스케일링' 법칙 기반 칩 설계가 과열 문제를 방지할 수 있다는 새로운 연구 결과를 발표했다. 6일(현지시간) 사우스차이나모닝포스트에

화웨이가 자사의 혁신적인 칩 설계 기술인 '타우(τ) 스케일링' 법칙을 통해 과열 문제를 해결했다는 희소식이 전해졌다. 이 기술은 차세대 키린(Kirin) 2026 칩의 성능을 획기적으로 향상시키면서도 전력 소비를 대폭 줄일 수 있다는 점에서 주목받고 있다.

타우 스케일링의 새로운 가능성

화웨이의 '타우 스케일링' 법칙은 반도체 설계에 있어 새로운 패러다임을 제시하고 있다. 최근 발표된 연구 결과에 따르면, 이 법칙을 적용한 키린 2026 칩은 이전 세대 대비 트랜지스터 밀도를 55% 증가시켰다. 이와 함께 핵심 연산의 전력 소비는 신경망처리장치(NPU)에서 최대 66%, 그래픽 처리 장치(GPU)에서는 58% 줄어들었다. 이는 타우 법칙이 발열 문제를 해결할 수 있는 가능성을 보여주는 중요한 지표로 평가된다.

허팅보 화웨이 과학자위원회 위원장은 이 과정에서 로직폴딩(Logic Folding) 기술이 핵심 역할을 했다고 설명했다. 로직폴딩은 회로 배치를 수직으로 재구성하여 데이터 이동 거리를 단축시키는 방식으로, 이는 전력 소모를 줄이고 발열을 완화하는 데 기여한다. 일반적으로 스마트폰의 동작에서 전력 소비의 90%가 동적 전력으로 발생하는 만큼, 데이터 전송 경로를 효율적으로 설계하는 것이 매우 중요하다.

발열 문제를 넘어서

업계에서는 3D 수직 적층 방식이 필연적으로 발열을 증가시킬 것이라는 우려가 컸지만, 화웨이는 이러한 우려를 정면으로 반박했다. 키린 2026은 이전 세대보다 낮은 온도에서 작동한다는 측정 결과를 제시하며, 발열 문제는 단순히 트랜지스터를 쌓는 것만으로 해결되지 않는다는 점을 강조했다. 핵심은 회로 설계에서의 혁신이며, 이는 특정 영역에 열이 집중되는 핫스팟을 완화하는 데도 효과적이다.

특히 NPU의 경우, 동일한 성능을 유지하면서 클록 주파수가 63% 낮아지고 공급 전압이 0.85V에서 0.55V로 줄어드는 성과를 이뤄냈다. 최대 성능 기준으로는 70 테라옵스(TOPS)까지 도달하며, 이전 세대보다 성능이 141% 향상된 것으로 나타났다. 이러한 발전은 데이터센터와 고성능 컴퓨팅 환경에서 더욱 중요한 이슈가 될 것으로 보인다.

미래를 향한 한 걸음

물론 타우 법칙과 로직폴딩이 모든 문제를 해결하는 것은 아니다. CPU의 연산 특성상 직렬 작업 비중이 높기 때문에, NPU나 GPU와 같은 방식으로 전압을 낮추는 효과를 기대하기 어렵다는 한계가 존재한다. 또한 하이브리드 본딩의 구현, 층간 응력, 정렬 정확도 등의 복잡한 기술적 과제도 여전히 남아 있다.

그럼에도 불구하고 화웨이는 '포스트 무어 시대'를 대비한 새로운 반도체 발전 방향을 제시하며, 2026년 가을 첫 로직폴딩 기반 키린 칩을 출시할 계획이다. 이러한 기술의 진보는 향후 스마트폰뿐만 아니라 다양한 전자 기기의 성능 향상에 기여할 것으로 기대된다. 화웨이의 타우 법칙은 반도체 산업의 혁신적인 전환점을 마련할 중요한 이정표가 될 가능성이 크다.